Appellation

Type

Spectre*

Mode
d’étalement

Propriétés

Développeur et stripeurs associés

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PMMA / Copolymer

positive

E-beam, DUV, X-ray

tournette

  • Excellente adhésion (la plupart de substrats),
  • Litographie direct-write e-beam,
  • Procédé multi couche T-gate

Développeur MIBK/IPA (1:1 ; 1:2, 1:3)
MIBK pur

 

SAL 601HSR7

négative

e-beam

tournette

  • Temps d’écriture réduit (haute sensibilité),
  • Résolution jusqu’à <0,1µm,
  • Développement aqueux

Microposit MF-322 Developper