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PMGI SF - Application pour lift-off,
microlentille, planarisation
| PMGI SF |
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- Sensible de 240 à 280 nm en UV profond, Rayons X ou E-Beam,
- Résolution sub-micronique,
- Excellent contrôle de l'undercut,
- Aucune interaction avec des résines de type Novalaque, PVP ou
PMMA,
- Développement aqueux,
- Meilleure résistance à la gravure sèche que la résine PMMA,
- Peu ou pas de rétrécissement,
- Epaisseur de 0,1 à 12 microns en une passe,
- Bonne propriétés diélectriques,
- Excellente stabilité et transparence optique,
- Chimiquement stable à 350 °C,
- Tg de 190 °C.
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Autres produits disponibles : Remover PG, Acryl
Strip, EBR PG
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