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NANO PMMA - Résine pour application Rayons
X & E-Beam positif
| PMMA - Poly(methylmethacrylate) |
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- Disponible avec des poids moléculaires de 495 et 950K dans l'anisole
et le chlorobenzène,
- Disponible également avec des poids moléculaires de 50K, 100K,
200K & 2,2M,
- Excellente résolution,
- Grande stabilité thermique,
- Tg de 105 °C.
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| Copolymère Nano MMA (8.5) MAA |
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- 8,5 % d'acide methacrylique,
- Utilisée dans de nombreuse application,
- Meilleur taux de dispersion que la PMMA,
- Excellente pour des applications de transfert sub-micronique,
- Solution fabriquée dans l'éthyl lactate,
- Tg de 55 °C.
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| Copolymère Nano MMA (17.5) MAA |
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- 17,5 % d'acide methacrylique,
- Utilisée dans de nombreuse application,
- Meilleur taux de dispersion que la PMMA,
- Excellente pour des applications de transfert sub-micronique,
- Solution fabriquée dans l'éthyl lactate,
- Tg de 55 °C.
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| Développeur pour PMMA et Copolymère NANO |
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- Développeur MIBK pur,
- Différente dilutions MIBK / IPA disponibles,
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Autres produits disponibles : Remover PG, Acryl
Strip, EBR PG
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